電子光學(xué)用的edi超純水設備
文章作者: 宏森環(huán)保
眾所周知，對于電子光學(xué)行業(yè)也就是生活中常見(jiàn)的半導體設備加工時(shí)用到的集成電路芯片、電子試劑用水、電子管涂敷配液用水、封裝用水、液晶顯示器屏面清洗用水、光學(xué)鏡片清洗用水、微電子工業(yè)、微電子工業(yè)以及各種電子器件的生產(chǎn)用水對于水質(zhì)的要求極高，本文一起來(lái)了解一下關(guān)于：電子光學(xué)用的edi超純水設備。
電子光學(xué)用的edi超純水設備采用的是電滲析技術(shù)和離子交換技術(shù)融為一體的連續電除鹽技術(shù)，其工作的原理是通過(guò)陽(yáng)、陰離子膜對陽(yáng)、陰離子的選擇透過(guò)作用以及離子交換樹(shù)脂對水中離子的交換作用，實(shí)現水中離子的定向遷移，最后達到水的深度凈化除鹽。
離子交換樹(shù)通過(guò)水電解是可以實(shí)現連續再生，在水電解的過(guò)程中產(chǎn)生的氫離子和氫氧根離子對裝填樹(shù)脂進(jìn)行連續再生，而且在設備制水的整個(gè)過(guò)程中都是不需要加入任何的堿、酸化學(xué)藥品再生。
電子光學(xué)用的edi超純水設備的出水水質(zhì)需達到：
1、企業(yè)的對于設備的出水水質(zhì)要求;
2、電力裝置的繼電保護和自動(dòng)裝置設計規范(GB50062-1992);
3、工業(yè)與民用電力裝置的接地設計規范(GBJ65-1983);
4、ZBG98020-90《水處理設備系列型譜》;
5、GB/T11446.1-1997國家電子級超純水標準Ⅰ級≥18MΩ/CM (25℃)95%以上時(shí)間;
根據企業(yè)對不同的行業(yè)其用水的電阻率要求是不一樣的，宏森環(huán)保采用的是雙級反滲透純化水處理技術(shù)+EDI模塊化設計，可制取出18.2兆的超純水，其系統的自動(dòng)化程度高、操作簡(jiǎn)便、系統工藝先進(jìn)且出水水質(zhì)穩定，當然該純水設備還可以制取出15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm的水質(zhì)。
