硅單晶微電子工業(yè)用的水處理設備
文章作者: 宏森環(huán)保
硅單晶是一種可用于制作集成電路和半導體器件等的半導體材料，屬于非金屬元素，對于探測器級硅單晶、電路級硅單晶等電力電子器件及大功率晶體管都是可將會(huì )用到硅單晶，在進(jìn)行微電子工業(yè)的加工過(guò)程中需要用到一定要求的純水，如工業(yè)純水的水質(zhì)要求沒(méi)有達到要求則會(huì )對產(chǎn)品的使用造成一定的影響，下面介紹關(guān)于硅單晶微電子工業(yè)用的水處理設備。
該純水設備可根根電子工業(yè)對于純水的水質(zhì)要求進(jìn)行劃分，純水水質(zhì)電阻率細分到0.5MΩ.cm、2MΩ.cm、10MΩ.cm、15MΩ.cm、18MΩ.cm、18.2MΩ.cm等之間。
電子純水處理設備由預處理系統、離子交換混床(EDI電除鹽系統)系統、RO反滲透主機系統等結構構成主要設備，其中預處理系統可根據當地的原水水質(zhì)選擇采用鈉離子軟化器、精密過(guò)濾器、多介質(zhì)過(guò)濾器、活性碳過(guò)濾器等工藝。
水處理設備根據出水水質(zhì)分為離子交換樹(shù)脂、反滲透水處理設備與離子交換設備結合、反滲透設備與電去離子(EDI)設備結合三種主要的水處理工藝。
硅單晶微電子離子交換技術(shù)工藝流程：進(jìn)水原水→多介質(zhì)過(guò)濾器→活性炭過(guò)濾器→精密過(guò)濾器→中間水箱→反滲透設備→混床(復床)→超純水箱→超純水泵→后置保安過(guò)濾器→用水對象。
采用反滲透技術(shù)作為預處理工藝，后續再采用離子交換技術(shù)，優(yōu)勢在于離子設備再生周期相對要長(cháng)而且在耗費的酸堿方面比單純采用離子樹(shù)脂的方式要少很多。
以上是對于微電子工業(yè)用的水處理設備采用的水處理工藝中的一種，如想了解其他的水處理工藝流程可到宏森環(huán)保進(jìn)行詳情的方案查詢(xún)。
